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廈門韞茂科技有限公司是一家以納米級表面成膜和刻蝕技術為核心的企業，面向量子科學，先進材料，半導體，超導等領域為客戶提供專業的技術解決方案，幫助客戶更高效的推動技術的探索與發展，公司形成以UHV超高真空鍍膜裝備，ALD原子層鍍膜系統、半導體專用鍍膜設備為核心的產品矩陣，助力中國的高科技技術和產業的發展。廈門韞茂科技有限公司于2018年在廈門集美成立，由美國斯坦福博士以及在美國硅谷專業從事高端裝備制造的海歸團隊組成，是一家創新型高端納米裝備制造技術企業，專門為泛半導體及新能源提供先進的納米材料制造裝...

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電子束蒸發鍍膜的過程包括哪幾個關鍵步驟？
2023-07-11

電子束蒸發鍍膜是一種物理氣相沉積（PVD）技術，用于在基底材料上生長薄膜。它利用高能電子束來蒸發源材料，使其從固態直接轉變為氣態，然后在基底上沉積形成薄膜。這種技術具有較高的沉積速率和較好的薄膜質量，可實現低溫沉積和高精度控制。電子束蒸發鍍膜技術具有幾個優勢。它可以實現高純度材料的沉積，因為源材料在蒸發過程中不會與其他物質發生反應。該技術可實現較高的沉積速率和良好的薄膜均勻性，從而提高生產效率和產品品質。具有較高的沉積溫度控制能力，適用于對基底材料有溫度敏感性要求的應用。該技...
超高真空鍍膜設備的特點和廣泛的應用
2023-07-04

超高真空鍍膜設備是一種先進的技術裝備，用于在材料表面形成薄膜。它具有廣泛的應用領域，包括光學、電子、航空航天等行業。超高真空鍍膜設備的工作原理基于真空環境下的物理氣相沉積原理。它通常由真空腔體、加熱源、鍍膜源和控制系統等組成。首先，將待鍍物放置在真空腔體中，通過抽取內部空氣實現超高真空環境的建立。然后，加熱源提供熱能，使鍍膜源中的材料升溫并蒸發。蒸發的材料沉積在待鍍物的表面，形成均勻且致密的薄膜。具有許多特點：超高真空環境可消除氣體和雜質對薄膜質量的影響，確保薄膜的純凈性。設...
PEALD的優點和組成是怎樣的？
2023-06-11

雙腔室高真空等離子體PEALD是一種薄膜沉積技術，也被稱為迭層沉積技術。該技術可以在高真空環境下制備非常均勻、致密和一致的幾納米厚度的薄膜，這些薄膜通常用于微電子和光學應用中。PEALD技術具有多種優點。該技術可以在非常低的溫度下進行，因此可以在溫度敏感的襯底上進行薄膜沉積。由于該技術可以在高真空環境下進行，因此可以避免氧化或其他污染物質對沉積過程的干擾。該技術具有非常高的控制性，可以精確控制每個原子層的沉積，從而實現高度一致的薄膜。PEALD系統通常由兩個獨立的反應腔室組成...

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關于真空蒸發鍍膜如何形成優質薄膜
2023-07-21

真空蒸鍍是將固體材料（簡稱蒸鍍材料）在高真空環境中加熱，沉積在特定基板上，得到薄膜的過程。真空蒸鍍工藝主要用于微電子制造有源元件、器件觸點和金屬互連件、高精度低溫度系數薄膜電阻器，以及薄膜電容器的絕緣介質和電極。真空蒸發鍍膜通過真空蒸發工藝形成各種薄膜是集成電路制造的一項重要技術?？梢酝ㄟ^真空蒸發沉積多種材料，例如導電材料、介電材料、磁性材料和半導體材料。影響薄膜質量的關鍵過程在真空蒸發過程中，系統的真空度直接影響薄膜的質量。為了將蒸發原子或分子沉積在離蒸發源一定距離的基板上...
桌面式原子層沉積系統的關鍵特點體現在哪些方面？
2023-07-14

桌面式原子層沉積系統是一種精密的薄膜制備設備，具有廣泛的應用領域和重要的科學研究價值。桌面式原子層沉積系統是一種用于薄膜沉積的技術。它采用了原子層沉積（ALD）的工藝，在納米尺度上控制薄膜的成分和厚度。該系統由一個真空腔室、多個進樣閥和反應室組成。在ALD過程中，材料的前驅體交替地注入到反應室中，通過化學反應使得物質以原子或分子層的形式沉積在襯底表面上。這種逐層生長的方法可以實現較高的薄膜均勻性、控制薄膜的厚度和成分，從而得到高品質的薄膜材料。該系統具有以下關鍵特點。1、具有...
真空鍍膜系統主要構成部分，你知道幾個？
2023-07-11

1、真空室涂層設備主要有連續涂層生產線及單室涂層機兩種形式，不銹鋼材料制造、氬弧焊接、表面進行化學拋光處理，真空室組件上焊有各種規格的法蘭接口。2、真空獲得部分在真空技術中，真空獲得部分是重要組成部分。真空的獲得不是一種真空設備和方法所能達到的，必須將幾種泵聯合使用，如機械泵、羅茨泵、分子泵系統等。3、真空測量部分真空系統的真空測量部分，就是要對真空室內的壓強進行測量。像真空泵一樣，沒有一種真空計能測量整個真空范圍，人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計。如熱偶計，...