粉末原子層沉積設備

一、粉體包覆核心參數：  

產地類別：國產原子層沉積系統（ALD）  

襯底尺寸：100g-1000g粉末  

工藝溫度：RT-300℃  

前驅體數：2組反應氣體8組液態或固態反應前驅體  

重量：300KG  

尺寸(WxHxD)：1150*1030*1850mm  

均勻性：在粉末表面實現均勻原子層包覆,包覆均一性<3%  

二、原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。  

三、粉體包覆產品描述：  

廈門韞茂科技公司的GM系列自動粉末原子層沉積設備它可以在微納米粉體上實現均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長，GM1000的反應室可自動運行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積)，設備配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統，保證工藝溫度均勻。該系統具有粉末樣品桶、動態粉末流化機構、全自動溫度控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業級安全控制，以及現場RGA、QCM、臭氧發生器、手套箱等設計選項。是先進能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發工具。  

四、售后服務：  

保修期：1年  

是否可延長保修期：否  

現場技術咨詢：有  

免費培訓：1.設備出廠前，提供至少2人一周的設備原廠培訓。2.設備在現場完成安裝調試  

免費儀器保養：有需要可安排  

保內維修承諾：保修期內（除天災和人為損害外）部件、元件費用、出差費用均由我司承擔

報修承諾：質保期內出現故障時我司將及時響應，并在8小時內派技術人員到現場解決故障  

五、技術參數：