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當前位置:首頁 > 產品中心 > 半導體行業專用儀器 > 原子層沉積設備 > Mini Desktop ALD桌面式原子層沉積系統
簡要描述:桌面式原子層沉積系統ALD(Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術,具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。
產品分類
半導體行業專用儀器
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